1.系统极限真空度:优于5E-7托 (干燥、清洁、空载的腔体)2.膜厚均匀性:优于+/-3% (用Ti在旋转的4寸基片上沉积2000埃的膜,5mm边缘除外)3.基片可以和蒸发束斑形成0-90度夹角4.速率分辨率:0.05埃/秒
应用于镀制各种单层、多层硬质薄膜。其在制备纳米器件、有机光电器件的金属电极,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层方面有突出作用。
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