1系统背景真空度优于1×10-7mBar
2 nozzle尺寸可调
3可产生的团簇束流流量不低于每秒钟1012个,选择后高于106个/s
4 选择精度优于20
5 选择后束流原子数在1-10000之间
6 样品台行程为20cm以上,可以放置4个以上样品,可使用液氮冷却。
适用范围广,可制备金属、半导体、非导体等各种团簇;
团簇表面干净,没有保护配体的干扰,可制备高活性团簇;
团簇尺寸控制范围大(1-60,000 atoms)、精度高∆m/m≈ 5%;
结构和成份可控;沉积方式和能量可控;
无
公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
---|