截面研磨:样品尺寸:20(W)*12(D)*7(H)mm
平面研磨:样品尺寸:φ50*25(H)mm
还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能,针对不同样品进行截面研磨。
离子束加工是在真空条件下,离子枪中低压惰性气体离子化,出射的阳离子又经加速,获得具有一定速度的离子束投射到样品表面,由于离子带正电荷,其质量比电子大数千、数万倍,所以离子束比电子束具有更大的撞击动能,靠微观的机械撞击能量加工样品。
平面研磨
直径约为5mm范围内的均匀加工
最大可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品
可选择旋转和摆动(±60度,±90度的摆动)2种加工方法
金属以及复合材料、高分子材料等样品的截面制备
含有裂缝和空隙等特定位置的样品截面制备
多层样品的截面制备以及对样品EBSD分析的前处理。
公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
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