高精度掩膜对准光刻机
资产编号：
S1703847
联系人：
王大鹏
联系电话：
18792760790
邮箱：
规格型号：
MJB4
放置地点：
2510
生产厂家：
Suss
制造国家：
德国
购置日期：
2017-11-07
入网日期：
2022-05-16
入网日期：
2022-05-16
购置日期：
2017-11-07
仪器价格：
86.52
仪器产地：
德国
分类号：
010402
出厂日期：
2017-11-07
资产负责人：
王大鹏
主要规格及技术指标:
支持4英寸晶圆；曝光波长：350-450nm；曝光灯功率：350W；分辨率：优于0.8mm（光刻胶厚度1微米时）；套刻精度：0.5mm；光强均匀度：优于±2％；更换汞灯后及汞灯全寿命周期内无需均匀性校正；曝光模式：可支持硬接触、软接触、接近和真空等模式.
主要功能及特色:
光刻设备用于半导体图形制作，是半导体芯片加工工艺的最初步骤，是半导体图形制作的第一步是所有半导体应用中的最初和关键工艺之一。光刻效果的好坏和使用的稳定性直接影响了微图形的制作。因此光刻设备为半导体工艺的关键设备。
主要附件及配置:
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
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